我司自主研發(fā)的高精密控溫技術(shù)，控制輸出精度達 0.1%，能精細掌控溫度變化。溫度波動控制可選 ±0.1℃、±0.05℃、±0.01℃、±0.005℃、±0.002℃等多檔，滿足嚴苛溫度需求。該系統(tǒng)潔凈度表現(xiàn)優(yōu)異，可達百級、十級、一級。關鍵區(qū)域靜態(tài)溫度穩(wěn)定性 ±5mK，內(nèi)部溫度均勻性小于 16mK/m，為芯片研發(fā)等敏感項目營造理想溫場，保障實驗數(shù)據(jù)不受溫度干擾。濕度方面，8 小時內(nèi)穩(wěn)定性可達 ±0.5%；壓力穩(wěn)定性為 +/-3Pa，設備還能連續(xù)穩(wěn)定工作 144 小時，助力長時間實驗與制造。在潔凈度上，工作區(qū)潔凈度優(yōu)于 ISO class3，既確保實驗結(jié)果準確可靠，又保障精密儀器正常工作與使用壽命，推動科研與生產(chǎn)進步。為航天零部件檢測打造的專屬環(huán)境，滿足其對溫濕度、潔凈度近乎苛刻的要求。四川環(huán)境環(huán)境
在光學鏡片研磨這一精細入微的工藝里，溫濕度波動無疑是如影隨形的 “大敵”，對鏡片質(zhì)量的影響堪稱致命。就研磨設備而言，即便是零點幾攝氏度的細微溫度變化，也會迅速讓研磨盤與鏡片材料的熱膨脹系數(shù)差異暴露無遺。這一差異會直接導致鏡片在研磨過程中受力不均，研磨效果參差不齊，鏡片的曲率精度因此大打折扣，進而嚴重影響其光學性能。而當處于高濕度環(huán)境時，空氣中彌漫的水汽就像隱匿的破壞者，極易在鏡片表面悄然凝結(jié)成水漬。這些水漬會在后續(xù)鍍膜工藝中成為棘手難題，極大地干擾鍍膜均勻性，致使鏡片的透過率和抗反射能力雙雙下滑，成品鏡片根本無法契合光學儀器所要求的嚴苛標準。江蘇環(huán)境廠房自面世以來，已為相關領域客戶提供了穩(wěn)定的實驗室環(huán)境以及監(jiān)測服務，獲得了眾多好評。
超高精度溫度控制是精密環(huán)控柜的一大突出亮點。其自主研發(fā)的高精密控溫技術(shù)，使得控制輸出精度達到驚人的 0.1% ，這意味著對溫度的調(diào)控能夠精細到極小的范圍。設備內(nèi)部溫度穩(wěn)定性在關鍵區(qū)域可達 +/-2mK (靜態(tài)) ，無論外界環(huán)境如何變化，都能保證關鍵部位的溫度處于極其穩(wěn)定的狀態(tài)。內(nèi)部溫度規(guī)格可在 22.0°C (可調(diào)) ，滿足不同用戶對溫度的個性化需求。而且溫度水平均勻性小于 16mK/m ，確保柜內(nèi)各個角落的溫度幾乎一致，避免因溫度差異導致的實驗誤差或產(chǎn)品質(zhì)量問題。再加上設備內(nèi)部濕度穩(wěn)定性可達 ±0.5%@8h ，以及壓力穩(wěn)定性可達 +/-3Pa ，連續(xù)穩(wěn)定工作時間大于 144h ，為對溫濕度、壓力要求苛刻的實驗和生產(chǎn)提供了可靠的環(huán)境保障，讓長時間的科研實驗和精密制造得以順利進行。
在電池的組裝工序中，溫濕度的波動對產(chǎn)品質(zhì)量和性能的影響不容小覷。溫度一旦發(fā)生變化，無論是電池外殼，還是內(nèi)部各種組件，都會不可避免地產(chǎn)生熱脹冷縮現(xiàn)象。倘若各部件的膨脹或收縮程度存在差異，組裝過程便會困難重重，極易出現(xiàn)縫隙過大或過小的情況�？p隙過大時，電池有漏液風險，這不但會嚴重損害電池性能，還埋下安全隱患；而縫隙過小，則可能致使部件間相互擠壓，破壞電池內(nèi)部結(jié)構(gòu)。在濕度方面，高濕度環(huán)境下，電池組件，尤其是金屬連接件極易受潮生銹。生銹后，其電阻增大，電池導電性能隨之變差，導致電池整體輸出功率降低。設備運行穩(wěn)定性高，可連續(xù)穩(wěn)定工作時間大于 144h。
在半導體芯片制造這一復雜且精細的領域，從芯片光刻、蝕刻到沉積、封裝等每一步，都對環(huán)境條件有著近乎嚴苛的要求，而精密環(huán)控柜憑借其性能成為保障生產(chǎn)的關鍵要素。芯片光刻環(huán)節(jié)，光刻機對環(huán)境穩(wěn)定性要求極高。哪怕 0.002℃的溫度波動，都可能使光刻機內(nèi)部的精密光學元件因熱脹冷縮產(chǎn)生細微形變，導致光路偏差，使光刻圖案精度受損。精密環(huán)控柜憑借超高精度溫度控制，將溫度波動控制在極小范圍，確保光刻機高精度運行，讓芯片光刻圖案正常呈現(xiàn)。精密環(huán)境控制設備憑借超高精度溫度控制，保障內(nèi)部溫度水平均勻性小于16mK/m。江蘇環(huán)境廠房
采用先進的智能自控系統(tǒng)，根據(jù)監(jiān)測數(shù)據(jù)自動調(diào)節(jié)環(huán)境參數(shù)，符合溫濕度波動要求。四川環(huán)境環(huán)境
在芯片這一高科技產(chǎn)品的復雜生產(chǎn)流程里，眾多環(huán)節(jié)對溫濕度的波動展現(xiàn)出了近乎苛刻的精密度要求。光刻過程中，利用高精度的光刻設備，將預先設計好的復雜電路圖案轉(zhuǎn)移至硅片表面。溫度的穩(wěn)定性起著決定性作用，哪怕有零點幾攝氏度的微小波動，都會使光刻膠內(nèi)部的化學反應速率產(chǎn)生偏差。光刻膠作為一種對光敏感的高分子材料，其反應速率的改變將直接作用于光刻成像效果，致使圖案邊緣模糊、線條粗細不均，進而讓芯片上的線路出現(xiàn)偏差，甚至引發(fā)短路故障，讓前期投入的大量人力、物力和時間付諸東流。與此同時，濕度因素同樣不可小覷。光刻車間若濕度偏高，水汽極易滲透至光刻膠內(nèi)部，使其含水量上升，感光度隨之降低，如同給精密的 “光刻鏡頭” 蒙上一層霧靄，嚴重影響光刻精度，導致芯片良品率大打折扣，大幅增加生產(chǎn)成本。四川環(huán)境環(huán)境
